Comportamiento de la zona radical activa del banano en un Ferrasol bajo riego por goteo superficial y subsuperficial

Manuel Reinaldo Rodríguez García

Abstract

El objetivo fundamental del presente trabajo es profundizar en el conocimiento de los procesos que rigen el comportamiento de la zona radical activa del banano en un suelo Ferrasol bajo riego por goteo superficial y sub superficial. Se analizan los resultados de experiencias realizadas en la Estación de Riego, sita en Alquízar, al sur de La Habana. Los balances hídricos se determinaron en cada tratamiento por el método de Balance de Masas a partir de la caracterización hidrodinámica del perfil del suelo. Se concluye que en el tratamiento superficial el 80% de la disminución total de la reserva de agua en el perfil del suelo ocurre en las profundidades de 0–45 cm, así como la mayor contribución a la evapotranspiración total del cultivo, mientras en los tratamientos subsuperficiales la zona de mayores variaciones diarias de la reserva de agua, va aumentando hacia las capas inferiores (30 a 70 cm), lo que indica un aumento de la zona de extracción de agua por las raíces, patentizado en el mayor aporte de las capas más profundas del suelo a la evapotranspiración total del cultivo.

Keywords

Riego por goteo subterráneo; zona radical activa; banano.

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